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2017.06.01p140（10微米）/ s140（10微米，带拼接）
nanoarch™是采用pμlse（面投影微立体光刻）技术，用于实现高精度多材料微纳尺度3d打印的设备。通过将紫外光投影到液态树脂表面使其固化，逐层累加从而完成产品的制作。
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2017.04.25摩方合作科学家开发出最具伸缩性和可uv固化3d打印弹性体
摩方合作科学家开发出最具伸缩性和可uv固化3d打印弹性体，该3d打印技术将显着提高制造柔软和可变形的3d结构和设备的能力，包括软启动器和机器人、柔性电子、声学超材料和许多其他应用。
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2017.04.06nanoarch首次亮相北美市场
摩方材料在uv.eb west2017展会上向北美市场推出全球第一台大幅面微纳尺度3d打印系统nanoarch……
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2017.04.06摩方材料与歌尔股份达成战略合作
2017年3月21日，摩方材料与歌尔股份签订战略合作协议。双方将在“复杂微结构光学镜片”领域进行技术合作，共同推动行业的进步。
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2017.03.27最具伸缩性和可uv固化3d打印弹性体（转载）
这种新型弹性体的拉伸程度可高达1100%，是现有各种市售弹性体的断裂伸长率的五倍以上，并且适用于基于uv固化的3d打印技术。这种suv弹性体可直接使用高分辨率3d打印机打印……
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2017.02.27面投影微立体光刻概述
面投影微立体光刻（后续简称pµlse)是一种层叠三维（3d）打印技术，使用可通过紫外线固化的树脂单体和投影掩模……
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2016.12.29摩方新材中标南大固体微结构物理国家重点实验室微纳米3d打印设备项目
摩方新材成功中标南京大学固体微结构物理国家重点实验室微纳米3d打印设备招标项目。
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2016.11.03摩方材料将向阿联酋masdar理工学院提供微纳米3d打印系统
10月，摩方材料成功向阿联酋masdar理工学院销售nanoarchtm微纳米3d打印系统，2017年4月摩方材料向masdar学院交付nanoarchtm后，masdar学院会将该系统用于学院的前沿研究项目。
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