nanoarch s130-凯发k8555

nanoarch s130是可以实现高精度大幅面微尺度3d打印的设备系统，它采用的是面投影微立体光刻（pμsl：projection micro litho stereo exposure）技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统，将需打印图案投影到树脂槽液面，在液面固化树脂并快速微立体成型，从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件，完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势，被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。