【摩方首台微纳米3d打印系统p120出货阿联酋马斯达尔理工学院】 | 摩方材料bmf-凯发k8555

发布日期：2017-06-21

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2017年5月12日，阿联酋马斯达尔理工学院(masdar institute of science and technology) 首次接收由摩方bmf出品的微纳米尺度3d打印系统设备nanoarch™ p120。

nanoarch™采用pμlse（面投影微立体光刻）技术，是用于实现高精度多材料微纳尺度3d打印的设备。其通过将紫外光投影到液态树脂表面使其固化，逐层累加从而完成产品的制作，即通过一次曝光可以完成一层的制作。

nanoarch system 是基于pulse技术(面投影微立体光刻技术)的微纳米级3d打印系统，pμlse技术(面投影微立体光刻技术)被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。

nanoarch用于实现高精度多材料微纳尺度3d打印，微结构分辨率可达0.5μm，具备成型效率高、生产成本低、打印精度高等突出优势。根据客户的不同需求，bmf material提供可定制的一体化凯发k8娱乐app下载的解决方案。

在微纳加工领域，bmf material拥有多年的实践经验，针对客户在设备使用中可能出现的工艺难题，提供简易高效的技术支撑方案；并可帮助客户挖掘广泛的科学家研究网络，促进材料研究。因此，nanoarch™ p120作为bmf摩方高端产品系列之一，其可根据客户需求，定制开发，拥有开放的树脂材料平台：可使用多种类树脂材料，可功能升级、模块改造，电气接口完备，并且还能自主开发软件方案，最难得是的该系统可实现多种打印及负面，精度最高可达0.5μm。

nanoarch™ p120 打印参数：

耗材要求：兼容各种中、低粘度405nm波长光固化树脂体系使用材料：

应用行业：

(1) 科研类

ž x.zheng, w.smith, j.jackson, b.moran, h.cui, d.chen, j.ye, n.fang, n.rodriguez, t.weisgraber & c.m.spadaccini, "multiscale metallic metamaterials", nature materials,15(10):1100 (2016)

ž x. zheng, h. lee, t. h. weisgraber, m. shusteff, j. deotte, e. b. duoss, j. d. kuntz, m.m. biener, q. ge, j. a. jackson, s. o. kucheyev, n. x. fang, c. m. spadaccini, “ultralight, ultrastiff mechanical metamaterials”, science, vol 344(6190), 1373-7(2014).

ž z.liu, h.lee, y.xiong, c.sun,and x,zhang, "far-field optical hyperlens magnifying
sub-diffraction-limited objects" science 315(5819):1686 (2007)

ž n.fang, h.lee, c.sun, and x.zhang, "sub-diffraction-limited optical imaging with a silver superlens", science, 308(5721), pp534-537, (2005)

(2)轻量化材料