开启微纳3d精密制造之门

微纳3d打印技术,打印材料,精密制造 | 摩方精密bmf-凯发k8555

nanoarch p130是可以实现高精度微尺度3d打印的设备系统,它采用的是面投影微立体光刻(pμsl:projection micro litho stereo exposure)技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统,将需打印图案投影到树脂槽液面,在液面固化树脂并快速微立体成型,从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件,完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势,被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。

微纳3d打印先行者和领导者

作为微纳3d打印先行者和领导者,在三维复杂结构微纳加工领域,bmf material团队拥有超过二十年的科研经验,针对客户在项目研究中可能出现的工艺和材料难题,我们将持续提供简易高效的凯发k8官网下载的技术支持方案。

工业级3d打印系统

nanoarch p130是工业级3d打印系统,拥有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印层厚,从而实现超高精度的样件制作,非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
工业级3d打印系统
工业级3d打印系统

工业级3d打印系统

nanoarch p130是工业级3d打印系统,拥有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印层厚,从而实现超高精度的样件制作,非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
nanoarchr p130 系统性能
光源

uv-led(405nm)

打印材料

光敏树脂

光学精度

2μm

xy打印精度

2μm~10μm

打印层厚

5μm~20μm

打印样品尺寸

3.84mm*2.16mm*10mm

样品高度

2 mm in typical;
10 mm in max

打印速度

2~7mm3/h

打印文件格式

stl

设备功率

2000w

系统外形尺寸

1720(l)*750(w)*1820mm(h)

重量

650kg

微纳制造 精密必现

nanoarch p130是可以实现高精度微尺度3d打印的设备系统,它采用的是面投影微立体光刻技术(pμsl:projection micro litho stereo exposure)

微纳制造 精密必现

nanoarch p130是可以实现高精度微尺度3d打印的设备系统,它采用的是面投影微立体光刻技术(pμsl:projection micro litho stereo exposure)

打印材料

通用型

丙烯酸类光敏树脂,比如hdda,pegda等。

个性化

高强度硬性树脂、纳米颗粒掺杂树脂、生物医用树脂等。

打印材料

通用型

丙烯酸类光敏树脂,比如hdda,pegda等。

个性化

高强度硬性树脂、纳米颗粒掺杂树脂、生物医用树脂等。

系统特点

高精度
(xy打印精度高达2μm)

低层厚
(5μm~20μm的打印层厚效果对比)
点击查看

nanoarch p130
打印精度:2μm~10μm,层厚5μm~20μm。
普通光固化机器
打印精度:30μm,层厚20μm。

微尺度大幅面的打印能力

光学监控系统,自动对焦功能

配置气浮平台,提高打印质量

优良的光源稳定性

配备完善的样品后处理组件
包括抽真空及紫外后固化

应用案例

微型弹簧

微型弹簧

dust plug

dust plug

alignment pin-holes

alignment pin-holes

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