nanoarch p140/s140 -凯发k8555
光学精度：10μm；
打印幅面：19×10mm；
超高精度快速成型增材制造设备。
打印幅面：19×10mm；
超高精度快速成型增材制造设备。
光学精度：10μm；
打印幅面：94×52mm；
超高精度大幅面增材制造设备。
打印幅面：94×52mm；
超高精度大幅面增材制造设备。
系统性能
| 性能参数 | nanoarch p140 产品规格 | nanoarch s140 产品规格 |
|---|---|---|
| 光源 | uv-led(405nm) | uv-led(405nm) |
| 打印材料 | 光敏树脂 | 光敏树脂 |
| 光学精度 | 10μm | 10μm |
| 打印层厚 | 10~40μm | 10~40μm |
| 打印样品尺寸 | 19.2mm(l)×10.8mm(w)×45mm(h) |
模式1：单投影模式：19.2mm(l)×10.8mm(w)×45mm(h) 模式2：拼接模式：94mm(l)×52mm(w)×45mm(h) 模式3：重复阵列模式：94mm(l)×52mm(w)×45mm(h) |
| 打印文件格式 | stl | stl |
| 系统外形尺寸 | 1000mm(l)×700mm(w)×1600mm(h) | 1000mm(l)×700mm(w)×1600mm(h) |
| 机器外形尺寸 | 650mm(l)×650mm(w)×750mm(h) | 650mm(l)×650mm(w)×750mm(h) |
| 重量 | 245kg | 245kg |
| 电气要求 | 220~240v ac,50/60hz,2kw | 220~240v ac,50/60hz,2kw |
| 性能参数 | nanoarch s140 产品规格 |
|---|---|
| 光源 | uv-led(405nm) |
| 打印材料 | 光敏树脂 |
| 光学精度 | 10μm |
| 打印层厚 | 10~40μm |
| 打印样品尺寸 |
模式1：单投影模式：19.2mm(l)×10.8mm(w)×45mm(h) 模式2：拼接模式：94mm(l)×52mm(w)×45mm(h) 模式3：重复阵列模式：94mm(l)×52mm(w)×45mm(h) |
| 打印文件格式 | stl |
| 系统外形尺寸 | 1000mm(l)×700mm(w)×1600mm(h) |
| 机器外形尺寸 | 650mm(l)×650mm(w)×750mm(h) |
| 重量 | 245kg |
| 电气要求 | 220~240v ac,50/60hz,2kw |
| 性能参数 | nanoarch p140 产品规格 |
|---|---|
| 光源 | uv-led(405nm) |
| 打印材料 | 光敏树脂 |
| 光学精度 | 10μm |
| 打印层厚 | 10~40μm |
| 打印样品尺寸 | 19.2mm(l)×10.8mm(w)×45mm(h) |
| 打印文件格式 | stl |
| 系统外形尺寸 | 1000mm(l)×700mm(w)×1600mm(h) |
| 机器外形尺寸 | 650mm(l)×650mm(w)×750mm(h) |
| 重量 | 245kg |
| 电气要求 | 220~240v ac,50/60hz,2kw |
系统特点
超高精度（光学精度高达10μm）
低层厚（10μm~40μm的打印层厚效果对比）
点击查看
微尺度打印能力
光学监控系统，自动对焦功能
优良的光源稳定性
配套功能强大的打印软件、切片软件
应用案例
跨尺度微点阵结构
倾斜微针结构
乳液生成器
