【南京大学国家重点实验室完成nanoarchp110 验收】 | 摩方材料bmf-凯发k8555

2017-07-14

2017年6月30日，摩方材料出品的微纳米尺度3d打印系统设备nanoarch™ p110由南京大学正式通过验收。这是摩方材料成长过程中，继nanoarch™ p120之后的又一里程碑，其代表着摩方材料在通往高精密微纳打印的道路上，逐渐迈向成熟，如同摩方材料公司核心价值观一样，稳中求进，逐渐强大。

nanoarch™采用pμlse（面投影微立体光刻）技术，是用于实现高精度多材料微纳尺度3d打印的设备。其通过将紫外光投影到液态树脂表面使其固化，逐层累加从而完成产品的制作，即通过一次曝光可以完成一层的制作。

nanoarch system 是基于pulse技术(面投影微立体光刻技术)的微纳米级3d打印系统，pμlse技术(面投影微立体光刻技术)被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。

微纳3d打印机nanoarch p110是采用pμlse（面投影微立体光刻）技术，用于实现高精度多材料微纳尺度3d打印的设备。通过将紫外光投影到液态树脂表面使其固化，逐层累加从而完成产品的制作。通过一次曝光可以完成一层的制作，具备成型效率高、生产成本低、打印精度高等突出优势，并能实现多材料的微纳尺度材料三维打印。微结构分辨率可达2μm。

在微纳加工领域，bmf material拥有多年的实践经验，针对客户在设备使用中可能出现的工艺难题，提供简易高效的技术支撑方案；并可帮助客户挖掘广泛的科学家研究网络，促进材料研究。

微纳3d打印机nanoarch p110有以下四个显著的产品特点：

(1).可定制高定位精度的光学系统和运动平台，两者最高分辨率皆可达到2μm。

(2).配置高精度ccd图像监控系统，实现光学对焦及实时曝光补偿，方便用户监控打印过程中异常。

(3).采用图像拼接成型方式解决成型精度与大尺寸成型之间的矛盾。

(4).通过工艺技术控制，实现3d打印成品的表面光滑。

nanoarch™ p110 打印参数：

打印尺寸：	80x80 mm	打印技术：	pμlse
机器尺寸：	1750x650x1820mm	操作软件：	labview
模型厚度：	50mm	操作系统：	windows
xy方向精度：	2 um	文件格式：	png/stl
z方向精度：	10 um	输入电压：	220v /50hz
打印耗材：	光敏树脂	机器功率：	3000w
环境温度：	25±2℃	机器重量：	500kg

使用材料：

耗材要求：兼容各种中、低粘度405nm波长光固化树脂体系

应用行业：

1 科研类

x.zheng, w.smith, j.jackson, b.moran, h.cui, d.chen, j.ye, n.fang, n.rodriguez, t.weisgraber & c.m.spadaccini, "multiscale metallic metamaterials", nature materials,15(10):1100 (2016)

x. zheng, h. lee, t. h. weisgraber, m. shusteff, j. deotte, e. b. duoss, j. d. kuntz, m.m. biener, q. ge, j. a. jackson, s. o. kucheyev, n. x. fang, c. m. spadaccini, “ultralight, ultrastiff mechanical metamaterials”, science, vol 344(6190), 1373-7(2014).

z.liu, h.lee, y.xiong, c.sun,and x,zhang, "far-field optical hyperlens magnifying
sub-diffraction-limited objects" science 315(5819):1686 (2007)

n.fang, h.lee, c.sun, and x.zhang, "sub-diffraction-limited optical imaging with a silver superlens", science, 308(5721), pp534-537, (2005)

2轻量化材料

应用领域：航空/航天/汽车

3光学元器件

应用领域：手机/vr/相机

希望南京大学师生可以利用nanoarch™ p110研究出更伟大的案例，给中国科学研究带来更多捷报，提升中国在国际高精密加工技术领域的雄厚实力！