【p140(10微米)/ s140(10微米,带拼接)】 | 摩方材料bmf-凯发k8555
2017-06-01
nanoarchtm是采用pμlse(面投影微立体光刻)技术,用于实现高精度多材料微纳尺度3d打印的设备。通过将紫外光投影到液态树脂表面使其固化,逐层累加从而完成产品的制作。通过一次曝光可以完成一层的制作,具备成型效率高、生产成本低、打印精度高等突出优势,并能实现多材料的微纳尺度材料三维打印。微结构分辨率可达10μm。nanoarch™ p140/s140 的xy 打印精度高达到10μm,z向打印精度10μm,打印幅面14.5*8.2 mm2,可扩展到73*50 mm2,普遍适用于高校或科研院所的科学实验,以及企业研发等,应用在血管支架,微通道,微连接器,微流控芯片,太赫兹器件等领域。
在微纳加工领域,bmf material拥有多年的实践经验,针对客户在设备使用中可能出现的工艺难题,提供简易高效的技术支撑方案;并可帮助客户挖掘广泛的科学家研究网络,促进材料研究。
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